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Teknek推出標(biāo)簽印刷業(yè)最先進(jìn)接觸式清潔系統(tǒng)

2009-03-06 11:10 來(lái)源：TEKNEK 責(zé)編：任蓓

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       近日，接觸式清潔科技全球領(lǐng)導(dǎo)者Teknek，推出標(biāo)簽印刷行業(yè)最先進(jìn)接觸式清潔系統(tǒng)。經(jīng)過(guò)五年研發(fā)，Nanocleen 宣告了一項(xiàng)具有劃時(shí)代的先進(jìn)污染及靜電控制接觸式清潔技術(shù)。

       Teknek 從20年前發(fā)明接觸式清潔以來(lái)，一直在研發(fā)上保持領(lǐng)先。Tenkek清潔機(jī)已有15, 500臺(tái)裝設(shè)在全世界用戶(hù)廠內(nèi)，幫助用戶(hù)增加生產(chǎn)效益、減少?gòu)U品及削減停機(jī)時(shí)間。推估Teknek科技已為用戶(hù)節(jié)省超過(guò)20億美金。

       Nanocleen 系統(tǒng)的核心是一支特殊配方制成的滾輪及粘塵紙卷。Nanocleen提供了一些超越傳統(tǒng)接觸式清潔系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)，包括：其特殊聚合材質(zhì)滾輪可清除更微小異物 – 小至25nm(納米)。當(dāng)前世界上所有其它的清潔設(shè)備供應(yīng)商只能處理到微米級(jí)。

       Nanocleen超高性能，可比其它接觸式清潔系統(tǒng)多清除25~50%異物量。除了清除污染外，這種滾輪也可散除靜電。其靜電消除性能，相較于傳統(tǒng)接觸式清潔系統(tǒng)，可得滿(mǎn)分10分。其滾輪及粘塵紙卷100% 無(wú)硅。傳統(tǒng)滾輪及粘塵紙卷皆含有硅成分，對(duì)生產(chǎn)線有污染風(fēng)險(xiǎn)。

       Nanocleen系統(tǒng)可安裝在舊型或新型Teknek清潔機(jī)以及其它制造廠的清潔機(jī)上 (使用選購(gòu)之升級(jí)套件，毋需重新投資硬件) 。

       Teknek總經(jīng)理史蒂芬?米奇說(shuō)：“Teknek對(duì)Nanocleen的新技術(shù)已投入巨大的研發(fā)資源于以及廣泛用戶(hù)處應(yīng)用測(cè)試。”他補(bǔ)充：“Nanocleen在未來(lái)的幾年必將成為接觸式清潔的標(biāo)準(zhǔn)。市場(chǎng)上無(wú)可與其匹敵者，由其提供的空前高水平的污染清除及靜電消除性能，在生產(chǎn)效益改善、廢品減量方面，將為用戶(hù)提供顯著的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。”

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