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富林特nyloflex Next曝光技術(shù)亮相美國(guó)標(biāo)簽展
2012-09-19 08:54 來(lái)源:標(biāo)簽與貼標(biāo) 責(zé)編:江佳
- 摘要:
- 在剛剛結(jié)束的Labelexpo Americas 2012展覽會(huì)上,富林特柔印產(chǎn)品部門展出了nyloflex Next曝光技術(shù),這種技術(shù)采用高照度UVLED,可以生成高精細(xì)表面的平頂網(wǎng)點(diǎn)。
【CPP114】訊:在剛剛結(jié)束的Labelexpo Americas 2012展覽會(huì)上,富林特柔印產(chǎn)品部門展出了nyloflex Next曝光技術(shù),這種技術(shù)采用高照度UVLED,可以生成高精細(xì)表面的平頂網(wǎng)點(diǎn)。
富林特柔印產(chǎn)品部門還將展出新的傳統(tǒng)柔印版材和數(shù)碼柔印版材nyloflex Ace,以及配套的溶劑型油墨、水性油墨和UV油墨。
此外,該公司還將展出rotec標(biāo)簽套筒,這是專門為窄幅輪轉(zhuǎn)印刷設(shè)計(jì)的,其尺寸的穩(wěn)定性更好。
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